IBM prezentuje technikę odwzorowującą kształty 3D w nanoskali

źródło: IBM/Science

W laboratorium IBM w Zurichu powstała nowa technika odwzorowywania kształtów 3D w nanoskali, która mogłaby zastąpić EBL (ang. electron beam lithograpyhy) - litografię wiązką elektronów.

W ramach demonstracji możliwości technologii pokazano tworzenie modelu 3D góry Matterhorn 4478m n.p.m. leżącej na granicy pomiędzy Włochami a Szwajcarią w skali 1:5000000000. Prezentacja miała pokazać olbrzymie możliwości techniki oraz zalety miniaturyzacji. Zastosowanie technologii może znaleźć miejsce w tworzeniu nanoskalowych soczewek w układach krzemowych, których zadaniem byłaby transmisja sygnałów z bardzo małych obwodów optycznych. Stosowanie układów optycznych coraz częściej będzie wypierało układy elektryczne, które przy dalszej miniaturyzacji stają się niewydajne.

EBL używa skupionej wiązki elektronów do odtwarzania wzorów w materiale wrażliwym na elektrony w mikro- i w nanoskali. Początkowo technika była stworzona na potrzebny nowoczesnej elektroniki ze zintegrowanymi układami optycznymi.

Model góry Matterhorn o wysokości 25nm tworzony był około 3 minut w organicznym materiale używając długich na 500nm i wysokich na 5nm warstw, które były podgrzewane do ponad 330ºC na kilka mikrosekund, aby zerwać wiązania wodorowe bez przerywania innych powiązań atomowych. Sonda działa jak mikroskopijna frezarka usuwająca warstwy podłoża.

W obecnym stanie technologia IBM mogłaby z powodzeniem zastąpić starsze EBL, które jest od 80 do 90% droższe i o wiele wolniejsze. Michel Despont - fizyk pracujący w IBM i współautor badań informuje, że technika ta używa mniejszej ilości kroków niż EBL, a fakt, że może być używana do odwzorowań 3D otwiera drogę do aplikacji, których jeszcze nikt dotąd nie rozważał.

W praktyce system mamy szansę zobaczyć w przeciągu 5 lat. Twórcy jednak chcieliby udostępnić wynalazek uczelniom technicznym o wiele wcześniej.

sciencemag.org