Partnerzy:

Reklama

Fotorezyst

Nanolinijka i 300-milimetrowy plaster krzemowy  © MIT
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów

Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do...

Reklama

OSTATNIE
KATEGORIE